Tantalum izspiešanas mērķis

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. is located in the High tech Development Zone of Baoji City, Shaanxi Province. The company mainly produces conventional processed profiles such as plates, strips, foils, rods, wires, and pipes made of tantalum, niobium, hafnium, tantalum volglus sakausējums, niobium hafnium sakausējums C103, kā arī dziļi pārstrādāti produkti, piemēram, kuģi, krustzieri, sputnas mērķi, pārklājuma mērķi, apstrādāti detaļas, augstas temperatūras krāsnis, krāsns, un korozija ar koriģējošām iekārtām (apkures krāsnīm, menedžnes) un ar koroziju.

 

 

Detalizēts tantaluma izsmidzināšanas mērķa materiāla specifikāciju skaidrojums

01.

Diametra/biezuma specifikācijas

Diametra specifikācijas: Parastie standarta diametri ir 50 mm, 50 . 8 mm, 57 mm, 60 mm, 76,2 mm, 80mm, 100 mm un 101,6 mm, ar pielāgošanas diapazonu 50-400 mm.
Biezuma specifikācija: pamata biezums parasti ir 0.1-50 mm (piemēram, 3 mm ir parastā vērtība), un to var piesaistīt vara aizmugures mērķim (piemēram, 2 mm vai 3 mm vara slānim) vai aprīkot ar magnētiskām blīves, lai atbilstu īpašas iekārtas saderībai .}

02.

Tīrības pakāpe/materiāla stāvoklis/forma un pielāgošana

Tīrības līmenis: augsta tīrība lielāka vai vienāda ar 99 . 95% vai lielāka vai vienāda ar 99,99%, kas piemērota pusvadītāju pakāpes lietojumprogrammām.
Materiāla stāvoklis: nodrošiniet atkvēlinātu stāvokli (M) vai cieto stāvokli (Y), lai izpildītu dažādas apstrādes prasības .
Forma un pielāgošana: atbalsta plakanu mērķu, rotējošu mērķu un neregulāro mērķu pielāgošanu . Izmēri, pielaides (piemēram, virsmas raupjuma, kas ir mazāka vai vienāda ar 32RM), un saistīšanas metodes var elastīgi izstrādāt atbilstoši zīmējumiem vai prasībām .}
Tīrības pakāpe/materiāla stāvoklis/forma un pielāgošana

Raksturlielumi:
Augsta kušanas temperatūra un lieliska ķīmiskā stabilitāte: Tantalum kausēšanas punkts ir 3017 grāds un viršanas temperatūra 5458 grādos . Tas nereaģē ar Aqua Regia istabas temperatūrā, un tam ir lieliska izturība pret koroziju .}}
Unikālas elektriskās īpašības: tantalum ir izcilas elektriskās īpašības un ir piemērota augstas klases izsmidzināšanas procesiem, piemēram, RF izspiešanai ar jaudas blīvumu līdz 15W/cm ² .
High temperature stability and low gas adsorption: maintaining a strength of>400MPa 500 grādu līmenī ar virsmas enerģiju, kas ir tik zema kā 0 . 8j/m ², efektīvi nomāc AR gāzes adsorbciju un uzlabo plēves nogulsnēšanas ātrumu.

Mērķis:
Pusvadītāju ražošana: Tantalum mērķi parasti tiek izmantoti kā barjeru materiāli vara starpsavienojumu tehnoloģijai pusvadītāju integrētās shēmās . Tantalum/tantalum slāpeklis (TA/tan) divslāņu struktūra var efektīvi pagarināt elektromigrācijas neveiksmes laiku līdz 10 ⁷ stundām .}}}}}}}}}}}}}}}}}} var pagarināt}}}}}}}}}} Žurnāliste „Caring”
Optiskais pārklājums: tantaluma mērķi tiek izmantoti, lai ražotu plānas plēves ar specifiskām optiskām īpašībām, izmantojot fizikālu tvaiku nogulsnēšanos (PVD) vai ķīmisku tvaiku nogulsnēšanās (CVD) paņēmienus, un tos plaši izmanto optiskajās ierīcēs, displejos un sensoros .}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}} {
Medicīnas ierīces: Tantalum ir laba bioloģiskā savietojamība un tā ir piemērota medicīniskiem implantiem, piemēram, kaulu plāksnēm un locītavu protēzēm, samazinot cilvēka noraidījumu reakcijas .
Pretkorozijas pārklājums: Tantalum lieliskās izturības pret koroziju dēļ to izmanto ķīmisko aprīkojuma un metāla virsmas pārklāšanai, kas pakļautas ekstrēmai videi, paplašinot aprīkojuma kalpošanas laiku .
Citas lietojumprogrammas: Tantalum mērķa materiāli tiek izmantoti arī magnētiskās uzglabāšanas līdzekļu ražošanā, tintes printera galviņās un plakanā panelī parāda .

Populāri tagi: Tantalum Sputtering Target, China Tantalum Sputtering mērķa ražotāji, piegādātāji, rūpnīca