Hafnija daļiņas ķīmiskai aprīkojumam
Hafnija daļiņas, ko izmanto ķīmiskajā aprīkojumā, ir granulēti materiāli, kas izgatavoti no augsta - tīrības metāla hafnium (parasti lielāks vai vienāds ar 99,9%), izmantojot tādus procesus kā hidrogenēšanas dehidrogenēšana (HDH) vai plazmas atomizācija (PA). Tās pamatvērtība ir lieliska izturība pret koroziju, augstas tīrības īpašībām un augstu {- temperatūras stabilitāti, padarot to par galveno materiālu, lai risinātu ārkārtēju ķīmisko vidi, piemēram, spēcīgas skābes un augstu temperatūru.
Apraksts
Hafnija daļiņām, ko izmanto ķīmiskajā aprīkojumā, jābūt lieliskai izturībai pret koroziju un ārkārtīgi augstu tīrību. Tam jābūt lieliskai izturībai pret spēcīgām skābēm, piemēram, slāpekļskābi, sālsskābi, sērskābi un augstu - temperatūras tvaiku, ar gada korozijas ātrumu, kas mazāks par 0,01 milimetriem. Tajā pašā laikā tādu piemaisījumu saturs kā dzelzs, niķeļa un hlorīda joni (viens<50ppm) must be strictly controlled to avoid catalytic poisoning or reaction medium pollution, ensuring the purity and continuity of the chemical process.
Otrkārt, daļiņām jābūt stabilai augstai - temperatūras veiktspējai un pielāgojamai fiziskajai morfoloģijai. Tas var uzturēt strukturālu stabilitāti skābā vidē 300–600 grādos C bez starpgruļu korozijas tendences un pielāgoties dažādiem procesiem, piemēram, termiskā izsmidzināšana un saķepināšana, izmantojot kontrolējamu daļiņu lielumu (1-150 μm), morfoloģiju (neregulāras vai sfēriskas) un daļiņu lieluma sadalījumu, apstrādes materiālus un funkcionālās prasības un funkcionālās lietojumprogrammas.
Pamatprocess
Ražošanas process ir precizitātes process, kas integrē augstu - tīrības metalurģiju, pulvera sagatavošanu un pēc - apstrādes, cenšoties iegūt hafnija daļiņu produktus ar lielisku korozijas pretestību un kontrolējamu kompozīciju un morfoloģiju.
1, augstas - tīrības hafnija izejvielu sagatavošana
Hafnija cirkonija atdalīšana un attīrīšana:
Izmantojot ekstrakcijas atdalīšanas paņēmienus (piemēram, MIBK tiocianāta sistēmu), augsts - tīrības hafnium savienojums (piemēram, HFCl ₄) tiek atdalīti no cirkonija hafnium co rindām.
Samazināšanas kausēšana:
Izmantojot Kroll procesu vai elektronu staru kūstošanu (EBM), hafnium savienojumi tiek samazināti un izkausēti lietojumos, stingri kontrolējot piemaisījumus, piemēram, skābekli (O<600 ppm) and nitrogen (N<100 ppm) to ensure substrate purity of ≥ 99.9%.
2, pulvera veidošanās process
Hidrogenēšanas dehidrogenēšanas (HDH) metode (vispārizglītojošais process):
Hidrogenēšana: apstrādājiet neodīma lietošanos ūdeņraža atmosfērā pie 500–800 grādiem C, lai izraisītu ūdeņraža baudīšanu.
Sasmalcināšana un slīpēšana: mehāniska saspiešana mērķa daļiņu lieluma diapazonā aizsargājošā atmosfērā.
Dehidrogenēšana: Dehidrogenēšanu veic ar augstu vakuumu ar 800-1000 grādu C, lai iegūtu neregulāras formas hafnija daļiņas ar augstu specifisku virsmas laukumu.
Plazmas atomizācijas (PA) metode (augsta - veiktspējas prasība):
Izkausē augstus - tīrības hafnium elektrodu stieņus šķidros pilienos caur plazmas loku inertā atmosfērā.
Pilieni atdziest ļoti sfēriskās daļiņās lidojuma laikā ar labu plūstamību un zemu skābekļa saturu, bet par augstākām izmaksām.
3, pēcapstrāde un šķirošana
Skrīnings un šķirošana:
Izmantojot vibrācijas skrīningu un gaisa plūsmas klasifikācijas tehnoloģiju, pulveri precīzi klasificē nepieciešamajā daļiņu lieluma diapazonā (piemēram, 1-45 μm, 45–150 μm).
Virsmas apstrāde
Skābes mazgāšana: izmantojiet jauktu skābi (piemēram, HF - HNO ∝), lai notīrītu virsmas oksīdus un piesārņotājus.
Pasivācijas ārstēšana: veido blīvu oksīda plēvi, lai vēl vairāk uzlabotu izturību pret koroziju.
Veiktspējas pārbaude:
Kompozīcijas analīze: GDM nosaka tīrības un piemaisījumu saturu.
Veiktspējas pārbaude: veiciet korozijas testus (piemēram, mērcēšanu 70% slāpekļskābes), daļiņu lieluma sadalījumu un plūstamības testus.
4, iesaiņojums un glabāšana
Iepakojums jāveic inertā atmosfērā (piemēram, argonā) vai vakuuma vidē, lai novērstu oksidāciju un mitruma absorbciju pārvadāšanas un uzglabāšanas laikā.
Etiķete ar tādu informāciju kā daļiņu lielums, tīrība, partijas numurs utt. Lai nodrošinātu izsekojamību un drošu izmantošanu.
Hafnija daļiņas, ko izmanto ķīmiskajā aprīkojumā, ir atrisinājušas materiāla korozijas un piesārņojuma problēmas stiprā skābē, augstā temperatūrā un augsta - tīrības vidē, izmantojot augstu - tīrības kontroli, morfoloģijas dizainu un virsmas optimizāciju. Tās pielietojums ievērojami paplašina ķīmisko aprīkojuma kalpošanas laiku, uzlabo procesa stabilitāti un produktu tīrību, un tas ir neaizstājams stratēģisks materiāls augstam - gala ķīmiskajam aprīkojumam.
Populāri tagi: Hafnija daļiņas ķīmiskai aprīkojumam, Ķīnas hafnija daļiņas ķīmisko aprīkojuma ražotājiem, piegādātājiem, rūpnīcai
Nosūtīt pieprasījumu
Jums varētu patikt arī
